Das Aufdampfverfahren ist eine der klassischen Methoden zur Herstellung von Dünnschichten im Rahmen der Vakuumbeschichtung. Es gehört zur Gruppe der Physical Vapor Deposition (PVD)-Techniken. Beim Prozess wird das Ausgangsmaterial, das als Beschichtung aufgetragen werden soll, in einer Vakuumkammer so stark erhitzt, dass es in die Gasphase übergeht. Der Energieeintrag zur Erhitzung geschieht typischerweise durch Widerstandsheizung oder Elektronenstrahl, in seltenen Fällen auch durch Laserstrahlung oder Induktion. Das verdampfte Material breitet sich anschließend im Vakuum nahezu ungehindert aus, da kaum Stöße mit Gasmolekülen auftreten.
Trifft der Dampf auf das Substrat, kondensiert er ähnlich wie Wasserdampf auf einer kalten Oberfläche, wodurch eine dünne Schicht entsteht.
Derartig erzeugte Schichten können unter Umständen porös sein oder eine geringe Haftfestigkeit aufweisen.